All Issue

2020 Vol.30, Issue 4 Preview Page
April 2020. pp. 160-168
Abstract
References
1.
S. H. Huh, H. J. Jeon, H. S. Chu, Y. S. Song, S. K. Lee, H. J. Lee and U. H. Lee, Korean J. Met. Mater., 52, 943 (2014). 10.3365/KJMM.2014.52.11.943
2.
K. H. Hwang, K. I. Lee, S. K. Joo and T. Kang, J. Korean Associ. Cryst. Growth, 1, 79 (1991).
3.
S. M. Sze, VLSI Technology, 2nd Ed, p. 373, NcGraw Hill (1988).
4.
S. H. Lee and N. J. Park, Korean J. Met. Mater., 45, 377 (2007).
5.
D. Edelstein, J. Heidenreich, R. Goldblatt, W. Cote, C. Uzoh, N. Lustig, P. Roper, T. McDevittt, W. Motsifft, A. Simon, J. Dukovic, R. Wachnik, H. Rathore, R. Schulz, L. Su, S. Lucet and J. Slatteryt, IEEE Int. Electron Devices Meet. Digest, p.773 (1997).
6.
H. C. Kim and J. J. Kim, Korean Chem. Eng. Res., 54, 723 (2016). 10.9713/kcer.2016.54.6.723
7.
J. G. Ryan, R. M. Geffken, N. R. Poulin and J. R. Paraszczak, IBM J. Res. Dev., 39, 371 (1995). 10.1147/rd.394.0371
8.
P. V. Brande and R. Winand, Surf. Coat. Technol., 52, 1 (1992). 10.1016/0257-8972(92)90365-H
9.
Z. Zhou and T. J. O’Keefe, J. Appl. Electrochem., 28, 461 (1998). 10.1023/A:1003209009910
10.
M. L. Sartorelli, A. Q. Schervenski, R. G. Delatorre and P. Klauss, Phys. Status Solidi A, 187, 91 (2001). 10.1002/1521-396X(200109)187:1<91::AID-PSSA91>3.0.CO;2-9
11.
T. G. Woo, I. S. Park, H. W. Lee and K. W. Seol, Korean J. Mater. Res., 16, 11 (2006). 10.3740/MRSK.2006.16.1.011
12.
J. J. Yang, Y. L. Huang and K. W. Xu, Surf. Coat. Technol., 201, 5574 (2007). 10.1016/j.surfcoat.2006.07.227
13.
V. A. Vas’ko, I. Tabakovic, S. C. Riemer and M. T. Kief, Microelectron. Eng., 75, 71 (2004). 10.1016/j.mee.2003.10.008
14.
C. M. Park, U. H. Lee and H. J. Lee, Korean J. Met. Mater., 54, 469 (2016). 10.3365/KJMM.2016.54.6.469
15.
S. K. Kim and J. J. Kim, Electrochem. Solid State Lett., 7, C98 (2004). 10.1149/1.1777552
16.
S. K. Cho, S. K. Kim and J. J. Kim, J. Electrochem. Soc., 152, C330 (2005). 10.1149/1.1891645
17.
S. Choe, M. J. Kim, H. C. Kim, S. K. Cho, S. H. Ahn, S. K. Kim and J. J. Kim, J. Electrochem. Soc., 160, D3179 (2013). 10.1149/2.032312jes
18.
M. H. Kim, H. R. Cha, C. S. Choi, H. S. Kim and D. Y. Lee, Korean J. Met. Mater., 48, 757 (2010).
19.
J. W. Gallaway, M. J. Willey and A. C. West, J. Electrochem. Soc., 156, D287 (2009). 10.1149/1.3142422
20.
Y. Cao, P. Taephaisitphongse, R. Chalupa and A. C. West, J. Electrochem. Soc., 148, C466 (2001). 10.1149/1.1377898
21.
S. K. Kim, D. Josell and T. Moffat, J. Electrochem. Soc., 153, C616 (2006). 10.1149/1.2216356
22.
Y. H. Jeong, Master Thesis(in Korean), p. 11-40, Dong- A University, Busan (2016).
23.
T. S. Kuan, C. K. Inoki, G. S. Oehrlein, K. Rose, Y. P. Zhao, G. C. Wang, S. M. Rossnagel and C. Cabral, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 612, D7.1.1 (2000).
24.
P. Stantke, JOM, 54, 19 (2002). 10.1007/BF02701651
25.
S. Yoshimura, S. Yoshihara, T. Shirakashi and E. Sato, Electrochim. Acta, 39, 589 (1994). 10.1016/0013-4686(94)80105-3
26.
A. Gittis and D. Dobrev, Thin solid Films, 130, 335 (1985). 10.1016/0040-6090(85)90364-5
27.
M. H. Kim, H. R. Cha, C. S. Choi, J. M. Kim and D. Y. Lee, Korean J. Met. Mater., 48, 884 (2010). 10.3365/KJMM.2010.48.10.884
28.
B. D. Cullity and S. R. Stock, Elements of X-ray Diffraction, third ed., p.170, Pearson Education, New Jersey (2001).
29.
S. H. Lee and N. J. Park, Korean J. Met. Mater., 44, 556 (2006). 10.1119/1.2362958
Information
  • Publisher :Materials Research Society of Korea
  • Publisher(Ko) :한국재료학회
  • Journal Title :Korean Journal of Materials Research
  • Journal Title(Ko) :한국재료학회지
  • Volume : 30
  • No :4
  • Pages :160-168
  • Received Date : 2019-12-06
  • Revised Date : 2020-03-13
  • Accepted Date : 2020-03-13